”
“十年后，应该会过渡到arf的技术路线上。”徐教授说道：“咱们华清大学激光所，已经在搞这种全新的光源了，十年内，必然会搞出来。不过……也有一些公司着手更加超前，比如ibm公司，已经在搞x射线的研究了。”
光刻机的技术路线，是在arf光源上遭遇巨大阻力的，这种光源波长193纳米，理论可以刻蚀到55纳米的工艺，但是再向下，就会碰到一座大山。
接下来用什么光源，行业内都是懵逼的，尼康这种老牌厂商，就是错误押宝，开发154纳米的光源，而阿斯麦，用了浸润式光刻机，给镜头加水，改变折射率，直接让光源降低到了134纳米。
浸润式光刻机在多重曝光之后，最低可以做到10纳米，再向下，就是极紫外的euv光刻机了。
所以，只要arf这个赛道不出错，以后咱们迅速过渡到浸入式光刻机，那就能用到新千年之后了！
“嗯，咱们坚定地走自己的技术路线就行！”秦富点头。